ON Semiconductor Czech Republic, s.r.o.

Modernizace čistých prostor M8

Rozsah prací: generální projektant a dodavatel

Zpracování PD: 10/2016 – 12/2017

Realizace stavby: 11/2016 – 03/2018

Předmětem projektové dokumentace a realizace stavby bylo rozšíření a modernizace čistých i ostatních prostor ve všech čtyřech halách objektu M8 pro výrobu polovodičových čipů. Pro zajištění zdrojů a vnitřního mikroklimatu byla vybudována strojovna vzduchotechniky. Byla realizována kompletní rekonstrukce horkovodní výměníkové stanice, distribuce plynů, distribuce a sběr organiky a dalších technických medií pro výrobní procesy.

Modernizací byly rekonstruovány a rozšířeny čisté prostory třídy čistoty ISO 4, ISO 6 a ISO 7 (dle ISO 14644–1) o celkové ploše 2142 m². Součástí díla byla také modernizace ostatních ploch o celkové ploše 6206 m².

Projektová dokumentace byla kompletně zpracována ve stupních pro stavební povolení a pro provádění stavby, vč. inženýrské činnosti.

Realizace všech stavebních prací probíhala v dílčích etapách při zachování plného výrobního provozu v okolních částech.